Архив метки: EUV

10нм от Intel vs 7нм от Samsung, TSMC и GlobalFoundries: сравнение техпроцесса

В рамках завершившегося сегодня симпозиума VLSI Symposia, посвященного СБИС (сверхбольшим интегральным схемам), компания Samsung поделилась кое-какими подробностями о своем 7-нм техпроцессе. От TSMC и Intel его отличает применение фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV), разработкой которой полупроводниковые компании занимаются уже три десятка лет. Её отличительной особенностью является использование лазерного луча с очень короткой длиной волны, 13.5… Читать далее »

Samsung перенесла выпуск 7-нанометровых процессоров на начало 2018

По словам управляющего директора полупроводником подразделением Samsung, компания приступит к производству 7-нанометровых процессоров в начале следующего, 2018 года. Для этого будет использована фотолитография в глубоком ультрафиолете (EUV). Предыдущий прогноз Samsung был менее оптимистичным — конец 2018 года. Таким образом, она планирует идти на равных с TSMC.

TSMC воспользуется фотолитографией в глубоком ультрафиолете для производства 5-нм процессоров

Тайваньский производитель процессоров, компания TSMC, объявила, что для производства 5-нанометровых процессоров рассчитывает использовать т.н. фотолитографию в глубоком ультрафиолете, она же экстремальная ультрафиолетовая литография (EUV). В основе этой технологии лежит свет экстремального ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 13.5 нм. В ноябре 2014 года сообщалось, что TSMC заказала у производителя EUV-оборудования, компании ASML, два литографических сканера. Ожидалось, что вместе с уже имеющимися у… Читать далее »