TSMC воспользуется фотолитографией в глубоком ультрафиолете для производства 5-нм процессоров
Тайваньский производитель процессоров, компания TSMC, объявила, что для производства 5-нанометровых процессоров рассчитывает использовать т.н. фотолитографию в глубоком ультрафиолете, она же экстремальная ультрафиолетовая литография (EUV). В основе этой технологии лежит свет экстремального ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 13.5 нм. В ноябре 2014 года сообщалось, что TSMC заказала у производителя EUV-оборудования, компании ASML, два литографических сканера. Ожидалось, что вместе с уже имеющимися у нее двумя сканерами TSMC сможет приступить к коммерческому выпуску 10-нанометровых чипов. Но похоже, что новейшая технология не освоена даже на 7-нанометровых — на последних EUV-литография будет только проходить испытания.
Промышленный выпуск 10-нанометровых процессоров TSMC планируется в 2016 году, а 7-нанометровых процессоров — во 2-ой половине 2018 года. В свою очередь на пробное производство 5-нанометровых чипов TSMC можно рассчитывать в 2018-2019 году. Напомним, что ведущий мировой производитель процессоров, компания Intel, отстает от этой динамики — недавно стало известно, что вместо 10-нанометровых процессоров Cannonlake в 2016 году будут выпускаться 14-нанометровые Kaby Lake.